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基片支承器、等离子体处理装置和聚焦环制造方法及图纸
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文档序号:24174147
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本发明提供一种基片支承器,其包括支承基片的第1支承区域和支承聚焦环的第2支承区域。第2支承区域在周向延伸。基片支承器具有导电结构和保持件。导电结构包括导电路径和连接部件。导电路径在第2支承区域的径向上的外侧提供端子区域,并从该端子区域向下方...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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