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本实用新型涉及光子光电子器件设计、制作领域，尤其涉及一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于，高阶模选择抑制型垂直面发射激光器包括由下至上依次设置的N电极层、衬底、下布拉格反射层和发光单元圆台，发光单元圆台随机均匀分布于下布拉格反射...该专利属于江苏华兴激光科技有限公司;武汉凹伟能源科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏华兴激光科技有限公司;武汉凹伟能源科技有限公司授权不得商用。