一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器制造技术

本实用新型专利技术涉及光子光电子器件设计、制作领域，尤其涉及一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于，高阶模选择抑制型垂直面发射激光器包括由下至上依次设置的N电极层、衬底、下布拉格反射层和发光单元圆台，发光单元圆台随机均匀分布于下布拉格反射层上构成随机单元阵列，相邻两发光单元圆台之间设有间隙；发光单元圆台包括由下至上依次设置的有源区、氧化限制层、上布拉格反射层、接触层、透明介质层，透明介质层具有不同刻蚀图案形成了高阶模选择抑制结构，高阶模选择抑制结构刻蚀图案的刻蚀深度满足四分之一波长相位相消条件。本实用新型专利技术实现高阶模抑制，保证光输出效率不受影响，稳定性强。

A high order mode selective suppression vertical surface emitting laser

【技术实现步骤摘要】
一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器
本技术涉及光子光电子器件设计、制作领域，尤其涉及一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器。
技术介绍
结构光方法是一种主动式光学测量技术，其基本原理是由结构光投射器向被测物体表面投射可控制的光点、光条或光面结构，并由图像传感器(如摄像机)获得图像，通过系统几何关系，利用三角原理计算得到物体的三维坐标。结构光测量方法具有计算简单、体积小、价格低、便于安装和维护的特点，在实际三维轮廓测量中被广泛使用。当采用光面结构光时，将二维的结构光图案投射到物体表面上，这样不需要进行扫描就可以实现三维轮廓测量，测量速度很快，随机编码结构光具有高匹配精度和鲁棒性,将其投射到被测物体表面,使物体表面具有丰富的纹理信息,从而使立体匹配不受自身表面纹理的影响,而且具有较强的抗外界噪音的能力,满足现场测量的要求。目前这种随机分布的结构光一般是通过激光束照射到光栅等随机衍射光学元件上产生，该结构光对每个单元发光模式及光斑形状有很高要求，光斑形状包括高斯型，“兔耳型”，超高斯型等，需要对每个发光单元激射模式进行精确控制，目前发布产品，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于：包括/nN电极层；/n衬底，设于N电极层上；/n下布拉格反射层，设于衬底上；/n发光单元圆台，随机均匀分布于下布拉格反射层上构成随机单元阵列，相邻两发光单元圆台之间设有间隙；其中，发光单元圆台包括：/n有源区，设于下布拉格反射层上；/n氧化限制层，设于下布拉格反射层上，其中心设有氧化孔径；/n上布拉格反射层，设于氧化限制层上；/n接触层，设于上布拉格反射层上；/nP电极层，设于接触层上；/n透明介质层，设于接触层上；透明介质层具有不同刻蚀图案形成了高阶模选择抑制结构，高阶模选择抑制结构刻蚀图案的刻蚀深度满足四分之一波长相位相消条件。/n

【技术特征摘要】
1.一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于：包括
N电极层；
衬底，设于N电极层上；
下布拉格反射层，设于衬底上；
发光单元圆台，随机均匀分布于下布拉格反射层上构成随机单元阵列，相邻两发光单元圆台之间设有间隙；其中，发光单元圆台包括：
有源区，设于下布拉格反射层上；
氧化限制层，设于下布拉格反射层上，其中心设有氧化孔径；
上布拉格反射层，设于氧化限制层上；
接触层，设于上布拉格反射层上；
P电极层，设于接触层上；
透明介质层，设于接触层上；透明介质层具有不同刻蚀图案形成了高阶模选择抑制结构，高阶模选择抑制结构刻蚀图案的刻蚀深度满足四分之一波长相位相消条件。


2.根据权利要求1所述的高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于：高阶模选择抑制结构的刻蚀图案包括圆环图案、四个月牙图案和环状排列楔形图案。


3.根据权利要求2所述的高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于：对于LP13、LP12高阶模的抑制采用圆环图案，对于LP11模的抑制采用四个月牙图案，对于基模LP01以外高阶模式的抑制采用环状排列楔形图案。


4.根据权利要求1所述的高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于：所述P电极层包裹于发光单元圆台及以外区域，位于发光单元圆台上方中部的P电极层开口形成上电极窗口，所述透明介质层设于上电极窗口处。


5.根据权利要求4所述的高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于：所述上电极窗口外缘的P电极层与接触层接触；发光单元圆台及以外区域与P电极层之间设有绝缘层。


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【专利技术属性】
技术研发人员：王岩，罗帅，季海铭，
申请(专利权)人：江苏华兴激光科技有限公司，武汉凹伟能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32