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本发明涉及一种提供表征光学元件的表面形状的方法和装置，该光学元件特别是微光刻投射曝光系统的反射镜或透镜。根据本发明的方法包括以下步骤：实行多个干涉式测量，其中记录在来自光学元件的相应部分的测试波与参考波之间的相应的干涉图，其中在这些测量之间...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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