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本揭露提供一种执行布局改善的方法及系统，其包括：提供包含多个单元的第一设计布局；使用光学近接校正来更新所述多个单元中的第一单元以提供第一经更新单元及数据集；基于所述数据集更新来自所述第一设计布局中的剩余单元中的第二单元以提供第二经更新单元；...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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