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本发明提供了一种测量盘及偏心值测量方法，属于半导体制造技术领域，测量盘包括：测量盘上设置有刻度线，用于标识至少两个相互垂直的直径方向上的刻度；方法包括：步骤S1，将测量盘放入涂胶显影机台，并按照预设工序向测量盘涂覆光刻胶；步骤S2，根据光刻...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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