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本发明实施例涉及化学气相沉积设备及导流盘。本发明实施例提供一种导流盘,其包含:盘体,其具有多个贯穿孔;第一区,其从中心到所述盘体的第一半径,具有第一电导;第二区,其从所述第一半径到所述盘体的第二半径,具有第二电导;第三区,其从所述第二半径到...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本发明实施例涉及化学气相沉积设备及导流盘。本发明实施例提供一种导流盘,其包含:盘体,其具有多个贯穿孔;第一区,其从中心到所述盘体的第一半径,具有第一电导;第二区,其从所述第一半径到所述盘体的第二半径,具有第二电导;第三区,其从所述第二半径到...