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本发明涉及一种气相沉积反应腔体的清洗装置、清洗系统及清洗方法，该气相沉积反应腔体的清洗装置(20)包括清洗室(21)、若干液体喷淋头(22)和排液口(23)，其中，所述清洗室(21)的底部从四周至中心逐渐凹陷，所述排液口(23)设置于所述清...该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种气相沉积反应腔体的清洗装置、清洗系统及清洗方法，该气相沉积反应腔体的清洗装置(20)包括清洗室(21)、若干液体喷淋头(22)和排液口(23)，其中，所述清洗室(21)的底部从四周至中心逐渐凹陷，所述排液口(23)设置于所述清...