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一种光刻装置，包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用来在该辐射束的横截面向其施加以图案，用于保持衬底的衬底台，用于将图案化辐射束投影到该衬底的目标部分上的投影系统，和被配置为跨该辐射束的横截面改变该辐...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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