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一种方法包括：确定由光刻设备的集合中的每个光刻设备引起的像差；计算光刻设备的调整，该调整将由每个光刻设备引起的像差之间的差最小化；以及将该调整应用于光刻设备来提供由光刻设备投影的图案的像差之间较佳的匹配。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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