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本实用新型提供了一种等离子体处理装置，包括：气路部件，气路部件为环形腔体结构，气路部件具有多个第一出气孔和多个第二出气孔，多个第一出气孔沿环形腔体周向间隔分布，且第一出气孔贯穿环形腔体的下壁，第一出气孔的轴线与环形腔体的轴线平行；多个第二出...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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