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本发明公开了一种巨量转移MicroLED芯片的方法,包括:提供一基板,所述基板的表面设有第一金属层,所述第一金属层选用钝化金属制成,所述钝化金属的电阻率≤110nΩ·m;在MicroLED芯片的底面设有第二金属层,所述第二金属层选用第二金属...该专利属于佛山市国星半导体技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过佛山市国星半导体技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种巨量转移MicroLED芯片的方法,包括:提供一基板,所述基板的表面设有第一金属层,所述第一金属层选用钝化金属制成,所述钝化金属的电阻率≤110nΩ·m;在MicroLED芯片的底面设有第二金属层,所述第二金属层选用第二金属...