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本公开内容整体涉及一种用于处理基板的工艺腔室和静电吸盘。所述静电吸盘包括：设施板；以及绝缘体，所述绝缘体设置在冷却基部与接地板之间。支撑主体耦接到所述冷却基部以用于在所述支撑主体上支撑基板。环被配置为环绕所述绝缘体。所述环由耐受因暴露于制造...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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