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本发明涉及喷镀用材料和带喷镀膜的构件。提供能够形成耐等离子体侵蚀性进一步提高了的致密的喷镀膜的喷镀用材料。利用本发明公开的技术，制成下述喷镀用材料，其包含稀土元素(RE)、氧(O)和卤素元素(X)作为构成元素，并且包含稀土元素卤氧化物(RE...
该专利属于东京毅力科创株式会社;福吉米株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;福吉米株式会社授权不得商用。

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