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该实用新型涉及一种刻蚀辅助装置、晶圆刻蚀设备，其中所述刻蚀辅助装置用于辅助晶圆刻蚀，包括：隔片，用于设置到聚焦环所围的区域内，使所述聚焦环内放置的晶圆与所述聚焦环之间的距离大于一预设值。本实用新型的刻蚀辅助装置、晶圆刻蚀设备能够隔开聚焦环和...
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