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一种半导体装置，包括：在基板上的多个鳍片、在多个鳍片的每一者的端部表面上的鳍片端间隔物插塞及鳍片衬垫层、在多个鳍片上的绝缘层，以及在多个鳍片的每一者中的源极/漏极凹槽中的源极/漏极磊晶层。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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