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本公开实施例提供一种清洁方法以及清洁系统，清洁系统以控制化学机械研磨浆料流入腔室以在腔室内形成浆料储存池。一旦在腔室内形成浆料储存池，所述清洁系统就将研磨头移动到位置并迫使附接到研磨头的晶片的表面与附接到腔室内的平台的研磨垫接触。晶片/垫的...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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