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光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固...该专利属于ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司授权不得商用。