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提供了设计以减少具有大范围的尺寸、材料、行进速率和入射角的污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性。根据本公开的方面，提供有包括第一腔室和第二腔室、具有第一表面的第一结构、和第二结构的物体平台。第二结构配置成支撑第二腔室中的物体，所述第二结构...该专利属于ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司授权不得商用。