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本公开提供用于从一腔室泵送气体的设备及方法。在一范例中，公开一种用于从一化学气相沉积腔室排出气体的设备。此设备包括：一壳体以及一涂层。壳体包括一内表面及与化学气相沉积腔室流体连通的至少一入口。涂层在内表面上。涂层配置以使内表面为疏水性。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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