温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

在本发明提供的测试方法中，通过两张掩膜板在一衬底上形成第一测试结构；通过一张掩膜板在所述衬底上形成第二测试结构，所述第二测试结构与所述第一测试结构的结构相同；测量所述第一测试结构的电容，以得到第一电容；测量所述第二测试结构的电容，以得到第二...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。