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本发明公开一种薄膜制备设备及其反应腔室。包括腔体以及设置在所述腔体内的载物平台；所述腔体包括：进气口，设置在所述载物平台的上方，用于输入反应气体；筒形的侧壁，设置有位于同一水平高度、由侧壁的内周壁凹陷形成且环绕所述载物平台分布的多个排气孔；...
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