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本发明关于用于处理光刻掩模(500)的多余材料(590，595)的方法，其中方法包含以下步骤：(a)扩大多余材料(590，595)的表面；(b)使用扫描探针显微镜(300、400)的至少一个第一探针(100，150，190，212，222，...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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