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层沉积设备，包含基材载体(14)、具有PVD层沉积室和/或ALD层沉积室的无机材料层沉积站(10)以及聚合物沉积站(8)。控制单元(20)控制在基材载体(14)上的基材(12)对来自无机材料层沉积站(10)和聚合物沉积站(8)的沉积作用的间...
该专利属于瑞士艾发科技所有，仅供学习研究参考，未经过瑞士艾发科技授权不得商用。

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