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本揭示揭露一种光罩处理方法及微影装置。根据本揭示的一些实施方式，一种光罩处理方法包含判断颗粒是否在光罩的接触表面上。若颗粒在接触表面，则光罩被清洁以由光罩的接触表面移除颗粒。在清洁光罩之后，光罩被设置于吸盘上，其中光罩的接触表面在光罩设置于...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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