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本发明实施例涉及改善临界尺寸一致性的方法与系统。一种方法包含：接收掩模的图案布局；收缩所述图案布局以形成收缩图案；确定所述收缩图案内的多个特征的每一个的中心线；和使所述多个特征的每一个的所述中心线与栅格贴齐。所述栅格表示掩模制造工具的最小分...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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