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本发明涉及一种半导体加工设备。在本发明的一实施例中，该半导体加工设备包含反应腔室，其内设置有用以承载待加工工件的基座；第一等离子体产生腔，与反应腔室连通设置，用于沿第一方向向待加工工件提供离子束；第二等离子体产生腔，该第二等离子体产生腔与反...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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