温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种确定合适的OPC修正程序的方法，包括：建立工艺窗口OPC模型；对OPC修正程序的参数进行改变，并利用变化前后的OPC修正程序对同一电路版图文件分别进行OPC修正，得到两个OPC修正结果；比较所述两个OPC修正结果，得到所述两...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。