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本发明实施例说明鳍状场效晶体管装置的结构与形成方法。鳍状场效晶体管装置包括:基板;鳍状物,位于基板上;以及栅极结构,位于鳍状物上。栅极结构包括功函数金属层,位于栅极结构的内侧侧壁上。功函数金属层的最顶侧表面低于栅极结构的上表面。栅极结构亦包...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本发明实施例说明鳍状场效晶体管装置的结构与形成方法。鳍状场效晶体管装置包括:基板;鳍状物,位于基板上;以及栅极结构,位于鳍状物上。栅极结构包括功函数金属层,位于栅极结构的内侧侧壁上。功函数金属层的最顶侧表面低于栅极结构的上表面。栅极结构亦包...