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本发明提供载置台装置、处理装置和载置台装置的操作方法，相比于现有技术能够抑制由剩余电荷导致的基片的偏移和破损。上述载置台装置包括：静电吸盘，其正面形成有能够与基片的背面电接触的导电膜；迂回至上述静电吸盘的背面的导电部件，该导电部件与上述导电...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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