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本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：基板保持部，其以使基板的形成有凹凸图案的面朝上的方式保持基板；液供给单元，其通过从被基板保持部保持的基板的上方对该基板供给处理液来形成覆盖凹凸图案的凹部的液膜；加热单元，其具有对液...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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