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本发明提供了一种版图结构以及半导体集成电路器件的形成方法。由于掩膜图案具有多个截断图形区，多个截断图形区靠近设置在遮盖图形区的边界上，从而在利用掩膜图案将第一特征图案界定为第二特征图案时，即可使所界定出的第二特征图案具有邻近截断图形区的边缘...
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