专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
三星电子株式会社
>
半导体器件制造技术
>技术资料下载
下载半导体器件的技术资料
文档序号:23240624
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
半导体器件包括:栅极,在衬底上沿第一方向延伸,所述栅极中的每个栅极包括栅极绝缘层、栅电极和第一间隔物;第一接触插塞,在所述栅极中的相邻栅极之间与衬底接触,第一接触插塞与所述栅极中的相应栅极的侧壁间隔开;第二接触插塞,与相应栅电极的上表面相接...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。