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本发明涉及半导体集成电路制造领域，具体涉及光刻机晶圆载台，包括基板载板，所述基板载板置于能抽真空的腔室中；若干个支柱，若干个所述支柱依次设于所述基板载板上，任意相邻的两个所述支柱形成有一个吸附间隙；若干个所述支柱的上表面位于同一平面上；所述...
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