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本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种研磨头的保护罩，用于防止研磨头上的杂质掉落，研磨头包括一圆盘形的主体，主体上设有一连接件，保护罩自上而下套设于主体上；保护罩包括：一第一保护罩，覆盖于主体的顶面并至少部分覆盖于主体的周向，第一保护罩...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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