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提供一种对接接触结构。在一实施例中,结构包含位于基底上的第一晶体管,第一晶体管包含第一源极或漏极区域、第一栅极、以及设置于第一栅极和第一源极或漏极区域之间的第一栅极间隔物。此结构包含位于基底上的第二晶体管,第二晶体管包含第二源极或漏极区域、...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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提供一种对接接触结构。在一实施例中,结构包含位于基底上的第一晶体管,第一晶体管包含第一源极或漏极区域、第一栅极、以及设置于第一栅极和第一源极或漏极区域之间的第一栅极间隔物。此结构包含位于基底上的第二晶体管,第二晶体管包含第二源极或漏极区域、...