温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供具有内连线结构的集成电路装置与其形成方法的例子。在一些例子中，方法包括接收工件，其具有内连线结构，且内连线结构包括：第一导电结构；第二导电结构，位于第一导电结构旁边；以及层间介电层，位于第一导电结构与第二导电结构之间。选择性沉积蚀刻停止...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。