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本发明提供计量方法及模块，其包括：使用相对于相应设置参数及/或计量度量的区域分析来实施配方设置程序及/或计量测量。所述区域分析包括：涉及跨越一或多批中的一或多个晶片的所述设置参数及/或计量度量的空间可变值。晶片区域可为离散或空间连续的，且用...
该专利属于科磊股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科磊股份有限公司授权不得商用。

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