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本发明提供了一种金属纳米线或片的制作方法，包括首先在衬底上依次交替生长若干层第一薄膜和第二薄膜，在顶层第二薄膜上涂覆光阻层；在光阻层上光刻出两端为平板区域中间有若干线条连接的图形；刻蚀第一薄膜和第二薄膜形成上述图形；去除底层第一薄膜上的若干...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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