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本公开提供一种法拉第杯组件及离子注入装置，涉及半导体技术领域。该法拉第杯组件包括基座、法拉第杯、保护环和多个连接件。基座具有一设有安装槽的安装面，安装槽的底面设有至少一个安装孔；法拉第杯呈圆环状且设于安装槽的底面，法拉第杯设有沿周向延伸的圆...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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