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一种金属硅化物的表征方法技术
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文档序号:22846927
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本发明涉及一种金属硅化物的表征方法和表征装置,该表征方法包括:提供半导体结构,该半导体结构包括硅衬底、金属栅极层以及形成于该金属栅极层与该硅衬底之间的金属硅化物;生成该半导体结构的电子能量损失谱;根据该电子能量损失谱,生成不同能量损失位置和...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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