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涂敷处理装置、涂敷处理方法和光学膜形成装置制造方法及图纸
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文档序号:22821037
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涂敷处理装置(10)包括:保持基片并使其在水平的一个方向移动的基片移动部(12、13);长条状的涂敷喷嘴(14),其在与基片移动部的移动方向正交的方向延伸,对基片移动部所保持的基片排出涂敷液;使涂敷喷嘴在涂敷喷嘴的延伸方向移动的涂敷喷嘴移动...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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