涂敷处理装置、涂敷处理方法和光学膜形成装置制造方法及图纸

涂敷处理装置(10)包括：保持基片并使其在水平的一个方向移动的基片移动部(12、13)；长条状的涂敷喷嘴(14)，其在与基片移动部的移动方向正交的方向延伸，对基片移动部所保持的基片排出涂敷液；使涂敷喷嘴在涂敷喷嘴的延伸方向移动的涂敷喷嘴移动部(16)；和控制部(18)，其通过控制基片移动部和涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制相对于基片移动部所保持的基片的涂敷方向。

Coating treatment device, coating treatment method and optical film forming device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂敷处理装置、涂敷处理方法和光学膜形成装置
本专利技术涉及在基片上涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置、使用该涂敷处理装置的涂敷处理方法和使用该涂敷处理装置的光学膜形成装置。
技术介绍
例如，在有机发光二极管(OLED：OrganicLightEmittingDiode)中，为了防止外光的反射而使用了圆偏光片。圆偏光片是将直线偏光片和波长片(相位差片)以它们的偏光轴45度交叉的方式层叠地制作而成。另外，在液晶显示器(LCD：LiquidCrystalDisplay)中，为了控制显示中的旋光性、双折射性，也使用了上述直线偏光片和波长片。另外，也存在例如仅将波长片以其偏光轴倾斜15度、75度的方式形成的情况。因此，需要将偏光片、波长片以任意的角度形成。而且，为了使偏光片、波长片的偏光轴以任意的角度交叉，也需要单独地形成上述偏光片、波长片。一直以来，这样的偏光片、波长片例如使用延伸膜来制作。延伸膜是通过使膜在一个方向延伸并粘贴，来使其材料中的分子在一个方向上取向的膜。然而，近年来，随着OLED、LCD的薄型化，也追求偏光片、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在基片上涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其特征在于，包括：/n基片移动部，其能够保持所述基片并使其在水平的一个方向上移动；/n长条状的涂敷喷嘴，其在与所述基片移动部的移动方向正交的方向上延伸，对所述基片移动部所保持的所述基片排出所述涂敷液；/n涂敷喷嘴移动部，其能够使所述涂敷喷嘴在所述涂敷喷嘴的延伸方向上移动；和/n控制部，其通过控制所述基片移动部和所述涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制对所述基片移动部所保持的所述基片进行涂敷的涂敷方向。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170428 JP 2017-0897441.一种在基片上涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其特征在于，包括：
基片移动部，其能够保持所述基片并使其在水平的一个方向上移动；
长条状的涂敷喷嘴，其在与所述基片移动部的移动方向正交的方向上延伸，对所述基片移动部所保持的所述基片排出所述涂敷液；
涂敷喷嘴移动部，其能够使所述涂敷喷嘴在所述涂敷喷嘴的延伸方向上移动；和
控制部，其通过控制所述基片移动部和所述涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制对所述基片移动部所保持的所述基片进行涂敷的涂敷方向。


2.如权利要求1所述的涂敷处理装置，其特征在于：
还包括回收部，其配置在所述涂敷喷嘴的下方，回收从所述涂敷喷嘴排出到所述基片移动部所保持的所述基片的外侧的涂敷液。


3.如权利要求2所述的涂敷处理装置，其特征在于：
所述回收部分体地配置在长条状的所述涂敷喷嘴的一端和另一端的下方。


4.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷处理装置，其特征在于：
还包括基片周缘处理部，其对涂敷处理中的所述基片的周缘进行规定...

【专利技术属性】
技术研发人员：池本大辅，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP