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本申请公开了一种改善刻蚀腔体缺陷的方法，该方法包括：步骤1，通过ESC对第一预定数量的目标片体分别执行夹持和释放动作，实现ESC的老化处理；步骤2，在ESC依次夹持第二预定数量的目标片体的过程中，对ESC的边缘进行清洁；步骤3，循环执行步骤...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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