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本发明关于用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其包含以下步骤：(a)决定至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中校正值(185)考虑光刻掩模(100)的至少...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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本发明关于用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其包含以下步骤：(a)决定至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中校正值(185)考虑光刻掩模(100)的至少...