确定用于处理光刻掩模的缺陷的修复形状的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术关于用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其包含以下步骤：(a)决定至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中校正值(185)考虑光刻掩模(100)的至少一个图案元素(130)的位置(175)，该至少一个图案元素没有接触至少一个缺陷(140)；以及(b)通过应用至少一个校正值(185)来校正修复形状(195)。

Device and method for determining the repair shape used to deal with defects of lithographic mask

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】确定用于处理光刻掩模的缺陷的修复形状的装置和方法相关申请的交叉引用本申请主张2017年3月8日申请的德国专利申请102017203841.1的权益，其名称为“VerfahrenundVorrichtungzumErmittelneinerReparaturformzumBearbeiteneinesDefektseinerphotolithographischenMaske”，且其全部内容以引用的方式并入本文。
本专利技术关于用于确定用于处理光刻掩模的缺陷的修复形状的方法和装置。
技术介绍
由于半导体产业中不断增长的集成密度，光刻掩模需要成像越来越小的结构。因此，光掩模的生产变得越来越复杂，也因此更为昂贵。光掩模结构尺寸的减小导致在光掩模上出现新的、额外的误差或缺陷。在制造具有更小结构的光掩模期间所增加的支出及由此带来的成本压力将迫使对在掩模生产期间或在使用掩模期间出现的缺陷进行修复，以避免其昂贵的、完全更新的生产。在修复光掩模上的缺陷前，需先将缺陷定位。这通过光学检验来实现，其较佳使用短波长的光子。在第二步骤中，通过使用来自FIB(聚焦离子束)扫描显微镜或扫描电子显微镜(SEM)的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其中该方法包含以下步骤：a.决定该至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中该校正值(185)考虑该光刻掩模(100)的至少一个图案元素(130)的位置(175)，该至少一个图案元素没有接触该至少一个缺陷(140)；以及b.通过应用该至少一个校正值(185)来校正该修复形状(195)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.08 DE 102017203841.11.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其中该方法包含以下步骤：a.决定该至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中该校正值(185)考虑该光刻掩模(100)的至少一个图案元素(130)的位置(175)，该至少一个图案元素没有接触该至少一个缺陷(140)；以及b.通过应用该至少一个校正值(185)来校正该修复形状(195)。2.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其中该方法包含以下步骤：a.决定该至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中该校正值(185)考虑该至少一个缺陷(140)在该光刻掩模(100)的基板(110)的表面上的横向范围(180)；以及b.通过应用该至少一个校正值(185)来校正该修复形状(195)。3.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(240)的修复形状(295)的方法，其中该方法包含以下步骤：a.决定该至少一个缺陷(240)的修复形状(295、395)的至少一个校正值(285、385)，其中该校正值(285、385)考虑该光刻掩模(100)的至少一个图案元素(220)的形式，该至少一个图案元素接触该至少一个缺陷(140、240)；以及b.通过应用该至少一个校正值(285)来校正该修复形状(295)。4.如权利要求3所述的方法，其中该至少一个校正值(285)考虑该至少一个图案元素(220)的横向尺寸(280)。5.如权利要求3或4所述的方法，其中该至少一个校正值(385)考虑该至少一个图案元素(220)的至少一个转角(340、350)。6.如权利要求5所述的方法，其中若该转角(350)突出到该至少一个缺陷(140)中，则相较于在该图案元素(120)的直线区域附近的校正值，该至少一个校正值(385)导致在该至少一个图案元素(120)的该至少一个转角(350)附近的修复形状(395)的减小，和/或其中若该至少一个缺陷(140)突出到该至少一个图案元素(120)的转角(340)中，则相较于在该图案元素(120)的直线区域附近的校正值，该至少一个校正值(385)导致在该至少一个图案元素(120)的至少一个转角(340)附近的修复形状(395)的增加。7.如权利要求4或5所述的方法，其中该至少一个校正值(285、385)考虑该至少一个图案元素(220)的横向尺寸(280)和该至少一个图案元素(120、220)的至少一个转角(340、350)。8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中决定该至少一个校正值(185、285、385)还包含：考虑该至少一个图案元素(120、130、220)的厚度和/或材料组成。9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中决定该至少一个校正值(185、285、385)还包含：考虑该至少一个缺陷(140、240)的厚度和/或材料组成。10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中处理该至少一个缺陷(140、240)包含：在该至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：J奥斯特，M韦布林杰，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE