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本发明提供一种反应腔室及半导体加工设备，其包括腔室侧壁和腔室底壁，还包括热交换元件和用于提供能量的热交换源，其中，热交换元件包括均匀分布在腔室侧壁中的第一部分，和均匀分布在腔室底壁中的第二部分。本发明提供的反应腔室，其可以避免使用多个加热器...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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