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本实用新型提供一种反应腔室及半导体加工设备，包括腔室本体、与腔室本体连接的真空装置、调压管路和/或第一调节阀、和设置于腔室本体内的基座，其中，基座包括承载基片的承载面，并在基座中设置有抽气通道，且抽气通道的一端贯通至承载面上，另一端与真空装...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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