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本发明公开了一种西红花苷分子印迹聚合物及其制备与应用，所述聚合物按如下方法制备：将西红花苷、甲基丙烯酸、丙烯酰胺和乙腈混合，再加入交联剂和引发剂，通N2鼓泡后再加入Fe3O4，在55‑65℃、30‑40Hz条件下超声至聚合完毕，抽滤，滤饼用...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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