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一种基板处理装置，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比...
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